Opis

Tehnične parametre

Predstavitev izdelka

HT Mn Oxygen Remover je nekakšen sistemski odstranjevalec kisika Mn. Uporablja se predvsem v industriji etilena in propilena za odstranjevanje sledi O₂v surovini ali se uporablja za odstranjevanje sledov kisika v plinih, kot je N₂, H₂, Ar in CO. Ima sposobnost odstranjevanja kisika brez hidrogeniranja pri sobni temperaturi, ima značilnosti visoke učinkovitosti odstranjevanja kisika, velike zmogljivosti odstranjevanja kisika, zmogljivost odstranjevanja nečistoč CO₂in H₂O itd., pa tudi stabilno delovanje in brez pregrevanja.

Običajno večina tovarn uporablja Ni sistemski odstranjevalec kisika za odstranjevanje kisika v surovini. Njegov mehanizem je, da reducirani nikelj reagira s kisikom v propilenu, da proizvede visokovalentne nikljeve okside, kar povzroči odstranitev kisika.

Vendar se v proizvodni praksi aktivni centri v odstranjevalcu kisika iz niklja ne porazdelijo dobro, aktivacijska reakcija je močna in odstranjevalec močno absorbira vodik v procesu aktivacije, kar lahko privede do pregretja odstranjevalca niklja, kar ima za posledico sintranje čistilnega stolpa. Tako je prizadeta normalna proizvodnja, kar vodi do izgube gospodarskih koristi.

Poleg tega je odstranjevalec kisika sistema Ni cilindrične oblike, njegova trdnost je nizka in ga je ob obremenitvi enostavno zdrobiti. Proizvedeni praški bodo skupaj s surovino vstopili v proizvodni sistem in vplivali na nadaljnji proces.

HT Mn Oxygen Remover nasprotno odpravlja zgoraj navedene pomanjkljivosti. Njegova zunanjost je kroglasta, ima visoko trdnost, ni ga enostavno zdrobiti, ko je naložen, poleg tega ima več funkcij, delovanje je stabilno, vsak indeks ustreza zahtevam procesa polimerizacije.

Mehanizmi regeneracije in odstranjevanja kisika HT Mn Oxygen Remover:

Proces aktivacije (regeneracije): MnO_{x +2n}+ 2nH₂→ MnOx + 2nH₂O+Q

Postopek odstranjevanja kisika: MnOx + nO₂→ MnO_{x +2n}+Q

Parametri izdelka

Mav tehnični indeksesodHTOdstranjevalec kisika Mn
Drugi atributi
Kraj izvora	Kitajska
Razvrstitev	katalizator
Drugo ime	Odstranjevalec kisika Mn
Aplikacija	Rafinirane surovine za industrijsko proizvodnjo propilena in etilena
Blagovna znamka	XUNDA
Številka modela	HT
Standardi kakovosti
Videz	Črno rjava krogla
Nasipna gostota, kg/L	1.1±0.2
Trdnost na drobljenje, N/zrnato	Večje ali enako 80
Delovni pogoji in indeksi čiščenja
Uporabljeni mediji	Tekoči propilen, etilen, N₂, H₂, Ar, CO
Nečistoče, ki jih je treba odstraniti	O₂
Delovna temperatura, stopinj	Normalna temperatura - 200, ki jo je treba izbrati
Najvišja temperatura toplotne odpornosti, stopinj	Manjše ali enako 500
Vesoljska hitrost, h^-1	Tekoča faza (3-7) Plinska faza (500-5000)
Stopnja odstranitve kisika, 1×10^-6V/V	Manjše ali enako 0,1
Aktivacijska (regeneracijska) temperatura, stopinja	180-350
Zmogljivost odstranjevanja kisika (življenjska doba), ml/g	10-18
Razmerje med višino in premerom	Večje ali enako 3
Zmožnost dobave
Proizvajalec	ja
Certificiranje	ISO9001:2015
Zmožnost dobave	9600 ton ali ton na leto
Pakiranje in dostava
Podrobnosti pakiranja	Jumbo vreča ali paket jeklenih bobnov
Pristanišče	Šanghaj, Ningbo, Šenžen, Qingdao
Prodaja enot	Posamezen predmet
MOQ	1 tona
Čas izvedbe
Količina (kilogrami)	>1000
Dobavni rok (dnevi)	Za pogajanja

Odstranjevalec kisika HT Mn ima naslednje prednosti:

1. Velika zmogljivost deoksigenacije

2. Globoka globina deoksigenacije

3. Visoka trdnost

4. Dobra toplotna odpornost

5. Odstranjevanje nečistoč CO₂in H₂O

6. Stabilno delovanje in brez pregrevanja

Aplikacija

Odstranjevalec kisika HT Mn se pogosto uporablja na področjih petrokemije, metalurgije jekla, električnih pol{0}}prevodnikov, lahke industrije in raziskovalnih enotah, ki uporabljajo super{1}}čiste pline.